PLANTEC ARCHITECTS

PLANTEC ARCHITECTS

PROJECT

生産施設Factory

NACOM

CONCEPT

南面の連続するカーテンウォールは、ファサードデザインを形成するとともに、ダブルスキン構造で空調負荷軽減と、電子部品生産施設クリーンルームのバッファーアリアも兼ねている。

DATA

所在地:アメリカ合衆国

規模:地上1階

設計期間:1993.8-1994.2

施工期間:1994.3-1995.2

敷地面積:239853m²

建築面積:41541m²

延床面積:45086m²