NACOM

CONCEPT

南面の連続するカーテンウォールは、ファサードデザインを形成するとともに、ダブルスキン構造で空調負荷軽減と、電子部品生産施設クリーンルームのバッファーエリアとしての機能も兼ねている。

DATA

所在地:アメリカ合衆国

階数:地上1階

設計期間:1993.8-1994.2

施工期間:1994.3-1995.2

敷地面積:239853m²

建築面積:41541m²

延床面積:45086m²

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